全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

阅读:

全球半导体光刻胶占总体的24.1%,中国半导体光刻胶仅占总体的1.6%

从全球产品市场来看,LCD光刻胶占比最高,为26.6%。PCB光刻胶占比位居第二,为24.5%。半导体光刻胶占比位居第三,为24.1%。总体看来,半导体光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶三类占比较为均衡。

从中国产品市场来看,PCB光刻胶市场份额占比最多,高达94.4%。LCD光刻胶市场份额占比第二,为2.7%。半导体光刻胶市场份额占比位居第三,仅为1.6%。总体看来,中国市场PCB光刻胶占据大部分市场份额,LCD光刻胶和半导体光刻胶所占份额非常低。

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

2017年,从全球区域市场来看,中国半导体光刻胶市场规模占全球比重最大,达到32%。其次是美洲地区,其光刻胶市场规模占全球比重为21%。亚太地区紧跟其后,光刻胶市场规模占全球比重为20%。欧洲、日本地区所占比重较低,大约均为9%。

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

全球半导体光刻胶市场规模将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

2017年,全球半导体光刻胶销售额达到12.05亿美元的市场规模。从全球半导体光刻胶分类市场份额占比来看,g/i线光刻胶市场份额占比为24.0%,KrF光刻胶市场份额占比为22.0%,ArF/液浸ArF光刻胶市场份额占比为41.0%。

未来,随着功率半导、传感器、LED市场的持续扩大,i线光刻胶市场将保持持续增长。随着精细化需求增加,使用i线光刻胶的应用将被KrF光刻胶替代,KrF光刻胶市场需求将不断增加。ArF光刻胶对应IC制程节点最为先进,在7nm制程的EUV技术成熟之前,ArF光刻胶仍将是主流,随着双/多重曝光技术的使用,光刻胶的使用次数增加,ArF光刻胶的市场需求将加速扩大。

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

2017年,全球光刻胶下游应用较为均衡,PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶及其他占比基本都在25%左右。

图表:光刻胶类别及品种

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

从以上概念及应用可知,光刻胶用于微小图形的加工,生产工艺复杂,技术壁垒较高。其主要技术参数包括分辨率、对比度、敏感度,此外还有粘滞性黏度、粘附性等。其中分辨率描述形成的关键尺寸;对比度描述光刻胶从曝光区到非曝光区的陡度;敏感度为光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值。诸多技术参数限制构成了光刻胶的技术壁垒。

同时,光刻胶质量直接影响下游产品的质量,下游企业对光刻胶供货企业的质量及供货能力非常重视,通常采取认证采购的商业模式。伴随着高的采购成本与认证成本,光刻胶生产厂家与下游企业通常会形成较为稳定的合作,这对新供应商涉足光刻胶行业设置了准入壁垒。

由于极高的行业壁垒,全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局,长年被日本、欧美专业公司垄断。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额,行业集中度较高。其中,日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率加和达到72%。

全球光刻胶行业分析,半导体光刻胶将不断扩大,ArF光刻胶仍将是主流

 

标签: PCB光刻胶LCD光刻胶半导体光刻胶

相关阅读