溅射靶材行业发展有利因素及不利因素

1、溅射靶材行业发展有利因素：

（1）下游应用领域的扩展和快速发展驱动溅射靶材需求持续扩大

溅射靶材是电子及信息产业、液晶显示器、光学等行业必不可少的原材料，进而广泛地应用于汽车电子、智能手机、平板电脑、家用电器、显微镜及相机镜头等终端消费领域，因此，溅射靶材行业不易受到偶然性或突发性因素的影响，能够充分分享下游产业应用的广阔市场。随着终端应用领域的不断扩展和快速发展，强劲的消费需求有利于驱动溅射靶材市场不断扩容，促进技术进步和产业成熟。

（2）国家产业政策支持

溅射靶材行业属于国家重点鼓励发展的战略性新兴产业，由于长期依赖进口，国内客户迫切希望溅射靶材能够尽快实现国产化。为了促进我国溅射靶材产业规模平稳较快增长，技术创新能力增强，加速溅射靶材供应本土化进程，近年来，国家制定了一系列产业政策引导溅射靶材工业健康稳定发展，同时，国家高技术研究发展计划（简称“863计划”）、国家科技重大专项“极大规模集成电路制造设备及成套工艺”专项基金（简称“02专项”）、发改委的战略转型产业化项目都有针对性地把溅射靶材的研发及产业化列为重点项目，从国家战略高度扶植溅射靶材产业发展壮大，国家产业政策、研发专项基金的陆续发布和落实，为溅射靶材行业的快速发展营造了良好的产业环境，将有力地引导溅射靶材产业持续健康发展，企业实力进一步增强。

（3）全球产业转移为溅射靶材发展提供新的机遇

2011年日本大地震致使日本溅射靶材生产商陷入全面停产，加剧了全球溅射靶材的供应缺口，随着溅射靶材下游应用领域的扩展，以半导体芯片为代表的主要应用市场的生产商迫切希望打破长期以来溅射靶材由美国、日本跨国公司垄断的局面，期待溅射靶材生产商的涌现能够为产业链带来新的活力，这为国内溅射靶材生产厂商提供了强劲的发展动力。

近年来，溅射靶材产业链中的下游工业面临着不同程度的成本压力，我国拥有平稳较快的经济发展速度以及持续活跃的终端消费市场，同时半导体产业存在产业向市场转移的趋势，我国是世界最大的集成电路第一手交易市场，销售额超过全球销售额的50%，因此我国逐渐受到跨国企业的亲睐，众多世界知名企业纷纷加大对中国的投资力度，不断将生产制造体系向中国转移，较低的劳动力成本和日益改善的配套设施也为我国承接全球产业转移提供了有力的支撑。随着溅射靶材和下游产业应用本土化程度的提高，中国在全球溅射靶材行业的地位将越来越突出，这为国内溅射靶材行业带来了更加广阔的市场发展空间。

2、溅射靶材行业发展不利因素：

（1）国内溅射靶材产业起步较晚，竞争实力偏弱

在高纯溅射靶材产业中，美国、日本等发达国家已经经过几十年的发展历程，在核心技术、生产工艺、产品质量、业界口碑等方面都积累了深厚的基础，形成了有利的市场先发优势。我国高纯溅射靶材产业起步较晚，技术水平与国际先进水平还存在一定差距，由于需要通过客户较长时间的供应商认证，市场影响力还相对有限，同时，尽管我国拥有较为丰富的金属矿源，但金属提纯技术有限，提纯出来的金属材料很大程度上达不到高纯溅射靶材的生产要求，这些都对我国高纯溅射靶材生产企业参与全球市场竞争设置了一些障碍。

（2）高端技术人才匮乏

高纯溅射靶材生产工艺复杂、技术含量高，对研发技术人员的专业素质要求很高，研发和制造需要具备较为扎实的专业知识储备和丰富的生产实践经验，能对生产过程实施精细化管理。由于国内高纯溅射靶材产业起步较晚，行业内高端技术人才较为稀缺，从而制约行业的发展。